第820章 「离婚」又来对手？（1 / 3）
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温寧克刚刚举起自己的手，屏幕上跳出参数：
波长纳米。
数值孔径。
套刻精度优於3纳米。
晶圆吞吐量每小时140片。
“这不是ppt，而是真正的量產，第一台量產型euv光刻机，將於今年年底交付。”
全场起立鼓掌。
这个消息犹如一道曙光，瞬间传遍了全球。
euv光刻机的突破意味著晶片製造终於可以摆脱多重曝光的痛苦。
以前用193纳米波长的深紫外光刻10纳米以下的晶片，需要反覆曝光四次、五次甚至六次。
良率低、成本高、周期长。
而euv直接用纳米的极紫外光，一次曝光就能刻出7纳米甚至更精密的电路。
这是半导体行业的圣杯，如今阿斯迈尔拿到了它
虽然不知道华星的7nm是怎样实现的，但如今阿斯麦尔有了更好的选择。
消息传到首尔，李在鎔一个人在办公室里坐了很久。